Cải tiến quy trình sản xuất pin mặt trời

03/09/2013

Một nhóm các nhà nghiên cứu thuộc Viện KH&CN Nhật Bản đứng đầu là GS. Tatsuya Shimoda đã thành công trong việc chế tạo pin sản xuất điện mặt trời bằng cách đốt nóng các tấm kính mạ silic lỏng, một bước đột phá hơn so với các phương pháp thông thường.

Phương pháp mới cho phép sản xuất các pin mặt trời với chi phí thấp hơn nhiều so với các phương pháp truyền thống. Phương pháp này còn được áp dụng để chế tạo các pin mặt trời nhiều lớp mà trước đây rất khó sản xuất.

Theo GS. Tatsuya Shimoda, phương pháp này về mặt lý thuyết có thể làm tăng đáng kể hiệu suất của pin mặt trời.

Các phương pháp sản xuất pin mặt trời hiện nay cần có thiết bị đắt tiền và các điều kiện đặc biệt. Chẳng hạn như phải sử dụng silic rắn có độ tinh khiết cao và các phân tử silic được chuyển đổi thành khí qua quá trình hút chân không.

Nhóm nghiên cứu đã mạ các tấm kính bằng polysilane, một dung dịch silic và sử dụng nhiệt từ các máy sưởi bằng điện để tạo các màng silic trên bề mặt của tấm kính. Quá trình này được lặp lại 3 lần. Cuối cùng nhóm nghiên cứu đã sản xuất thành công một pin mặt trời có 3 lớp silic, mỗi lớp có đặc tính khác nhau bằng cách trộn Boron (Bo) và các vật liệu khác với polysilane.

Mặc dù hiệu suất các pin mặt trời mới cao hơn 20% so với các mẫu pin thông thường, nhưng nhóm nghiên cứu cho rằng có thể nâng hiệu suất của pin bằng cách sử dụng các lớp silic có độ chính xác cao hơn (higher precision).

Lê My Theo Yomiuri.co.jp

Cải tiến quy trình sản xuất pin mặt trời

Bộ Công Thương ra mắt Cộng đồng Hiệu quả năng lượng Việt Nam

Giải pháp VRD-THVi làm mát thích ứng, tiết kiệm năng lượng cho nhà xưởng công nghiệp

Bản quyền thuộc Cục Đổi mới sáng tạo, Chuyển đổi xanh và Khuyến công, Bộ Công Thương